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晶圆缺陷检测

晶圆测量和缺陷检测是半导体生产的关键环节,检测和控制生产中的每一步生产质量。

Wafers defect's inspection
描述

为了显微测量,马波斯提供2D光谱共焦线扫相机。
在超高分辨率和超大景深应用中,可在Z轴上准确聚焦。
因此,这是检测晶圆缺陷的理想选择,例如,晶圆沿的检测和封装期间的检测。
这些传感器都允许集成在测量和检测设备中。
马波斯STIL在数十年的发展中积累了丰富的经验,可为用户提供量身定制解决方案和专用的光学设计。

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