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技术 -- 非接触式

非接触式测量由仅获取工件特性而不接触弓箭的设备完成。

需采用不同的技术来完成,例如光电电流和涡流。

技术 -- 非接触式
优势
  • 检测速度快
  • 灵活性
  • 可以检测光滑的表面
  • 可以检测接触式测量技术不能测量的集合特征
描述

马波斯的非接触式设备有四种光学技术:

  • 投影:被测部件边缘的阴影通过精确对准的光束投射到光电二极管(CCD)的线性阵列上。CCD传感器有从暗过渡到亮、从亮过渡到暗的功能。CCD信号以电子方式读取,通过子像素分辨率算法式进行处理,与阴影部分的尺寸值互相关联。
  • 反射测量,使用一种光电设备,配有光纤探针,能朝向目标发射发散光束。目标将光束反射回探针。探针通过两个不同的通道将反射的光束传输到一对光电二极管上。两个光电二极管检测到的信号的强度取决于表面的距离和两个通道内的光纤的排列。允许进行适当的电子处理,以确定从探针到表面的距离。
  • 干涉测量:使用一种光电设备,配有光纤探针,能朝向目标发射聚焦光束。目标将光束反射回探针。探针通过相同的光纤将反射的光束传输到光谱仪上。该反射光束由来自目标外表面和来自入射光束能够到达的目标内层的相互干涉的射线组成。允许进行适当的电子处理,以确定目标层内厚度值,或者当启用时,确定从探针到目标外表面的距离,以及探针到目标层内表面的距离。
  • 光谱共焦:使用一种光电设备,向目标发射色度偏差的光束。目标将光束反射回探针。探针通过相同的光纤将反射的光束传输到光谱仪上。该反射光束由来自目标外表面和来自入射光束能够到达的目标内层的射线组成。当波长聚焦在表面上时,反射光的强度最大。允许进行适当的电子处理,以确定目标层内厚度值,或从探针到目标外表面的距离,以及探针到目标层内表面的距离。

马波斯还使用涡流技术进行非接触式位移测量。

  • 电动线圈的主要时变磁场在位于其前方的目标的导电材料内感应出电流,从而产生次级时变磁场。专用电路详细说明了初级和次级磁场之间的相互作用,提供了与线圈和目标之间的距离相关的电信号。

 

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